多晶硅净化车间工程

化妆品-日化品生产企业原则上应当设置原料间，制作间，半成品存放间，灌装间，包装间，容器清洁、消毒、干燥、存放间，多晶硅净化车间工程，仓库，检验室，更衣室，缓冲区，办公室等，防止交叉污染。

化妆品生产过程中产生粉尘或者使用有害、、原料的产品必须使用单独生产车间。

制作、灌装、包装间总面积不得小于100平方米，人均占地面积不得小于4平方米，车间净高不得小于2.5米。

生产车间地面应当平整、耐磨、防滑、不渗水，便于清洁消毒。需要清洗的工作区地面应当有坡度，不积水，在蕞低处设置洁净地漏。

    净化空气调节系统如需电加热时，应选用管状电加热器，位置应布置在空气过滤器的上风侧，并应有防火安全措施。

    送风机可按净化空气调节系统的总送风量和总阻力值进行选择，中效、空气过滤器的阻力宜按其初阻力的两倍计算。

    净化工程中净化空气调节系统除直流式系统和设置值班风机的系统外，应采取防止室外污染空气通过新风口参入净化车间内的防灌倒措施。

    净化空气调节系统设计应合理利用回风，凡工艺过程产生大量有害物质且局部处理不能满足卫生要求，或对其他工序有危害时，则不应用回风。

工业洁净室设计

  在工业洁净室中，制药厂是我们经常遇到的工程设计，根据GMP对洁净厂房的要求，有几项重要参数应给予重视。

1、洁净度

2、换气次数

  一般性空调系统的换气次数每小时只需8~10次，而工业洁净室中的换气次数蕞低级别也要12次，蕞高的级别则需几百次，显然，换气次数的差别造成风量能耗的巨大差异。设计中，在洁净度准确定位的基础上，要保证足够的换气次数，否则运行结果不达标，洁净室抗干扰能力差，自净能力相应加长等等一系列问题就得不偿失了。

3、静压差

   不同级别的洁净室与非洁净室之间不能小于5Pa，洁净室与室外不能小于10Pa等等一系列要求。控制静压差的方法，主要是供给一定的正压风量，设计常采用的正压装置为余压阀、压差式电动风量调节器和回风口处装设空气阻尼层。近年来，设计中常采用不设正压装置而在初调试中，使送风量大于回风量和排风量的方式，并相应配设自动控制系统也能达到同样效果。